高纯度超细金刚石产品介绍

*高纯超细金刚石达至卓越品质:
——粒径尺寸精确、分布更窄
——超高表面纯度
——形状与表面性能俱佳
——高抛光效率
——高生产能力下的稳定质量

*高质量微粉的几个重大要素:
▪原材料 严格的原材料控制是获得均一性的关键；
▪粒度分布 粒度分布是获得优良性能的决定因素；
▪粒子分散 最佳粒子分散状态是取得良好加工效果的关键；
▪表面纯度 高清洁的粒子表面有利于提高其分散和结合性能，降低腐蚀；

*高质量微粉的技术、质量保障要素：
Ø 独特的分散技术工艺
金刚石微粉颗粒径低至50nm，由于纳米材料颗粒具有较大的比表面和不饱和键，将导致加工过程的团聚现象产生，对微粉表面的纯度有很大影响。我公司采用独特的专有技术对超细、纳米粉体材料进行分散，解决制造过程中的二次团聚，制造出符合高品质要求的超细、纳米颗粒。

Ø 精确的粒度控制系统
金刚石微粉的粒度分布是影响其质量的决定性因素。在自由研磨和抛光应用中，粒度的分布情况会影响被加工工件的表面效果和材料磨削率。我公司采用当今世界前沿技术，高效、精确的分级系统，分级、提纯一次完成，确保批量生产微粉的粒度分布集中均一。

Ø 高纯度的微粉表面处理工艺
表面完整性的最高境界是微粉表面被控制到极高的纯度。对于微粉在研磨液载体中的分散性以及其与结合剂的混合性能和把持力，微粉的表面清洁度显得极其重要。我们采用专有技术对分级后的微粉进行处理，然后应用高度纯水彻底洗涤，使粒子表面的离子物质和杂质污染水平降到PPM级。
我公司拥有的独特的专有技术，微粉经由一个单一连续的制造工艺制作而成。采用先进的分散微化技术，为得到精确尺寸、形状和表面性能的金刚石微粉提供了保障；当今前沿技术，高效、精确的分级系统，确保微粉的粒度分布集中均一；专有提纯技术，使粒子表面的离子物质和杂质污染水平降到PPM级。其结果是由最初的金刚石原料得到了均匀一致的成品，粒度、形状和表面性能得到最严紧的控制。极力推荐用于硅芯片加工、切片和开槽，以及玻璃、陶瓷、磁盘、磁头等高精度的研磨抛光。可根据用户需求，提供20 um~0.05 um等多种级别的高纯度超细、纳米金刚石，并达到以下技术指标：
² 金刚石粉末的灼烧减量≥99.9%；
² 二氧化硅含量≤0.005wt%（微量成分检测）；
² 单项元素杂质含量≤50PPM（ICP-MS微量成分检测）；
² 最小粒度级别达到50nm；
² 用激光拉曼光谱分析，检测不到石墨峰；
² X-射线粉晶衍射检测无非金刚石物相。