该技术是动、静态结合的高纯氮化硅粉体烧结工艺,其目的是使炉内反应气体保持一定的比例关系;提高控制精度,在静态时控制反应速度,动态时换气。
 
     采用该技术生产的氮化硅粉性能指标已经接近目前德国M11粉,超过日本Danka粉,产品已经出口美国。
 
      该产品纯度高、颗粒细度小、比表面积大,烧结活性及烧结体的性能已达到国际水平:结晶相纯度α相=95%,游离Si≤0.5%,Fe2O3≤0.1%, CaO≤0.05%,O≤1.5%,平均粒度D50≤0.35μm,粒径分布D90=0.9μm,D99=1.6μm,比表面积BET≥11.5m2/g,粒度与日本宇部兴产株式会社(UBE)粉相近,但是差别小且更易于胶态成型。
 
      该产品主要用于制造生产耐磨、耐高温工件,如用于机加工陶瓷刀具、耐热销、摩擦环、导弹雷达罩、轴承滚珠等。