一般说来，在釉面砖形成光泽庭荫树和映射性高的镜面状釉面砖较困难，为了解决这一技术难题，日本伊奈公司开发出一种镜面状釉面砖，获得发明专利。这种镜面状釉面面砖生产工艺十分简便、其采用的技术手段是： 
   
　　1、在釉料中添加钼分制釉； 
    
　　2、在坯表面形成一定尺寸的若干凹凸方檀，凹凸之间的宽度在10mm以下，深度在0.7mm以上； 
    
　　3、釉烧温度控制在1065°～1080℃之间。由于钼分的加入，烧成后釉面呈镜状，获得良好的光泽性和映射性，而且底面形成的凹凸方檀体，不仅不会影响釉面，反而有助于釉面形成镜面状。经测定，普通釉面砖光泽度为70%～90%，映射性为20%～50%，而制成的镜面状釉面砖，光泽度达90%～100%，映射性达70%以上。